化學成分

碳（C）：≤0.03硫（S）：≤0.025磷（P）：≤0.025錳（Mn）：0.10 - 0.50硅（Si）：≤0.30鈷（Co）：11.0 - 13.0鉬（Mo）：16.5 - 17.5鐵（Fe）：余量

物理性能

密度：約 8.2g/cm3（參考同類合金推測）熔點：約 1400 - 1450℃（大致范圍，實際可能因成分微調而有差異）居里溫度：約 300 - 350℃（大致區間，具體依成分和處理工藝而定）電阻率：較高，在特殊電子設備有潛在應用價值

磁性能

飽和磁感應強度：較高，給定磁場強度下可承載更多磁通密度矯頑力：較高，可達 1000A/m 以上，高溫下仍有良好磁性能磁滯損耗：低，磁化和去磁能量損失小，適合高頻應用磁電阻效應：獨特，在磁性器件制造有重要應用

機械性能

抗拉強度：約 800 - 1000MPa（因加工和熱處理狀態而異）屈服強度：約 600 - 800MPa（因加工和熱處理狀態而異）延伸率：約 10 - 20%（因加工和熱處理狀態而異）硬度：約 200 - 250HB（退火態，經處理后會改變）

性能優勢

1. 高飽和磁感應強度，適用于需較高磁能積場合。2. 低磁滯損耗，適合頻繁變化磁場環境，如高頻應用。3. 溫度穩定性好，一定溫度范圍內磁性能穩定。4. 高電阻率，在特殊電子設備有潛在應用。5. 良好加工性能，便于制造復雜零件。

應用領域

1. 高頻磁性元件：高頻變壓器、扼流圈、電感器等。2. 精密測量與傳感：精密測量儀器、傳感器。3. 電子設備：電磁兼容 (EMC) 元件，如濾波器、屏蔽材料。4. 航空航天：制造對磁性能和溫度穩定性有特殊要求的部件。5. 核磁共振成像 (MRI)：MRI 設備中的某些組件。6. 磁致冷技術：被視為理想的磁致冷材料。

加工工藝

1. 熔煉：控制合金化學成分，確保符合要求。2. 熱加工：鍛造、熱壓、熱擠壓等，獲得所需形狀尺寸。3. 冷加工：冷拔等，提高尺寸精度和表面質量。4. 熱處理：退火、淬火、回火等，優化微觀結構和性能。5. 表面處理：噴丸清理、拋光、涂層處理 。